108C 鍍碳儀（蒸鍍儀）
描述
108C鍍碳儀是用于掃描電鏡能譜分析的先進(jìn)的鍍碳儀之一。
主要特性
l 獨(dú)特的受反饋控制的碳棒蒸發(fā)系統(tǒng)可以在膜厚大約20nm左右進(jìn)行多次蒸發(fā)，無(wú)須切削或調(diào)整碳棒形狀。
l 108C中使用的高純碳棒可以在高倍條件下得到高質(zhì)量的鍍膜效果。該鍍膜系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊，容易操作，抽真空周期短。選件MTM-10高分辨膜厚監(jiān)控儀可以精確地得到所需的碳膜厚度。
l 使用新型的蒸發(fā)裝置：電流和電壓通過(guò)磁控頭的傳感線監(jiān)控，蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制。該蒸發(fā)裝置使常規(guī)的碳棒具有優(yōu)良的穩(wěn)定性和重現(xiàn)性。功率消耗低，碳棒具有優(yōu)異的重新蒸鍍特性。蒸發(fā)源可以通過(guò)脈沖或連續(xù)的方式操作。
l 可選擇手動(dòng)或自動(dòng)方式操作。
l 自動(dòng)模式下，蒸發(fā)源按程序設(shè)定的電壓和時(shí)間進(jìn)行噴鍍。手動(dòng)模式下，獨(dú)特的設(shè)計(jì)允許以脈沖或連續(xù)的方式操作，并通過(guò)旋鈕控制輸出電壓。
l 可配備MTM-10高分辨膜厚監(jiān)控儀（選件）。分辨率優(yōu)于0.1nm。在15nm至25nm的碳膜厚度范圍內(nèi)，重現(xiàn)性可優(yōu)于5％。
| 技術(shù)參數(shù) |
| 樣品室大小 | 直徑120 x 120mm 高 (4.75 x 4.75″) |
| 蒸發(fā)源 | Bradley型 (6.15mm rods),高強(qiáng)度不銹鋼結(jié)構(gòu) |
| 蒸發(fā)控制 | 基于微處理器的反饋回路控制，能夠進(jìn)行遠(yuǎn)程電流/電壓感應(yīng)，基于真空水平變量的安全互鎖功能，最大電流180A，提供過(guò)流保護(hù) |
| 樣品臺(tái) | 可裝置12個(gè)樣品座，高度在30mm范圍內(nèi)可調(diào) |
| 模擬計(jì)量 | 真空: atmos – 0.001mb; 電流: 0-200A |
| 厚度監(jiān)控 | MTM-10 高分辨膜厚監(jiān)控儀(選件) |
| 控制方法 | 自動(dòng)蒸發(fā)控制，使用程序設(shè)定的電壓和時(shí)間 以脈沖或連續(xù)方式進(jìn)行完全手動(dòng)控制 數(shù)字定時(shí)器（0－10s） 數(shù)字電壓設(shè)置（0.1 to 6.0V） |
| 真空系統(tǒng) |
| 真空泵 | 2級(jí)直連式高速真空泵 |
| 抽氣速率 | 100L/MIN |
| 極限真空 | ≤1 x 10-3 Torr |
| 噪音 | 50dB |